Please use this identifier to cite or link to this item: https://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/4213
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorVashchenko, Vyacheslav-
dc.contributor.authorYatsenko, Irina-
dc.contributor.authorKovalenko, Yuriy-
dc.contributor.authorKladko, V.P.-
dc.contributor.authorGudymenko, O.Yo.-
dc.contributor.authorLytvyn, P.M.-
dc.contributor.authorKorchovyi, A.A.-
dc.contributor.authorMamykin, S.V.-
dc.contributor.authorKondratenko, O.S.-
dc.contributor.authorMaslov, V.P.-
dc.contributor.authorDorozinska, H.V.-
dc.contributor.authorDorozinsky, G.V.-
dc.contributor.authorВащенко, Вячеслав Андрійович-
dc.contributor.authorЯценко, Ірина В'ячеславівна-
dc.contributor.authorКоваленко, Юрій Іванович-
dc.date.accessioned2022-11-08T10:25:47Z-
dc.date.available2022-11-08T10:25:47Z-
dc.date.issued2019-
dc.identifier.issn1560-8034-
dc.identifier.issn1605-6582 (on-line)-
dc.identifier.urihttps://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/4213-
dc.description.abstractElectron-beam treatment the glass substrates for sensitive elements of SPR devices causes almost two-fold narrowing their refractometric characteristics from 0.867 down to 0.453 deg. The angular shift was also changed, which made the measuring range wider by 0.37 deg. The sensitivity of SPR devices increased by 1.7 times from 1.425 up to 2.396 deg–1 as a consequence of lowering the energy expenses during propagation of surface plasmons along the boundary “metal–air”. The reason for this lowering is related to higher surface uniformity of the gold metal film, its higher density as well as lower nanoroughness of the glass surface and the thickness of heterointerface “gold–air”. In this case, the dispersion value for unevenness heights on the surface relatively to the base line was lowered from ±18 down to ±5 nm, mean-square roughness was three-fold reduced from 4.67 down to 1.64 nm, and the thickness of heterointerface gold–air was lowered from 3.26 down to 1.37 nm. It was ascertained using X-ray reflectometry that the film density increased from 17.2 up to 19.3 g/cm3 and reached the value typical for the bulk gold. It provided the changes in the refraction index and extinction coefficient of the gold film, which was ascertained using the ellipsometric method. Thus, the performed analysis of refractometric characteristics showed that electron-beam treatment the glass substrates of sensitive elements for SPR devices is able to efficiently enhance their sensitivity and to widen the range of measured resonance SPR angles.uk_UA
dc.description.abstractЕлектронно-променева обробка скляних підкладок чутливих елементів ППР-приладів призвела до звуження їх рефрактометричних характеристик майже в 2 рази з 0,453 до 0,867 С та кутового зсуву, що розширило діапазон вимірювання приладу на 0,37 С. Чутливість ППР-приладу підвищилась в 1,7 раза з 1,425 (С)–1 до 2,396 (С)–1 внаслідок зменшення втрат при поширенні поверхневих плазмонів вздовж межі метал-повітря. Причиною зменшення втрат стала більша однорідність поверхні металевої золотої плівки, більша її щільність та менша мікрошорсткість поверхні та товщина перехідного шару золото-повітря. При цьому величина розкиду висот нерівностей поверхні відносно базової лінії зменшилась з ±18 до ±5 нм, середньоквадратична мікрошорсткість поверхні зменшилась втричі з 4,67 до 1,64 нм, а товщина гетеропереходу золото-повітря зменшилась з 3,26 до 1,37 нм. Методом рентгенівської рефлектометрії було встановлено, що густина плівки збільшилась з 17,2 до 19,3 г/cм3 і досягла значення для масивного золота. Це вплинуло на зміну показника заломлення та коефіцієнт екстинкції плівки золота, які були визначені еліпсометричним методом. Таким чином, аналіз виміряних рефрактометричних характеристик показав, що застосування електронно-променевої обробки скляних підкладок чутливих елементів ППР-приладів ефективно підвищує їх чутливість та розширює діапазон вимірювання резонансних кутів ППР.uk_UA
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherSemiconductor Physics, Quantum Electronics & Optoelectronics (SPQEO)uk_UA
dc.subjectsurface plasmon resonanceuk_UA
dc.subjectsensitivityuk_UA
dc.subjectelectron-beam processinguk_UA
dc.subjectellipsometryuk_UA
dc.subjectatomic-force microscopyuk_UA
dc.subjectX-ray reflectometryuk_UA
dc.subjectповерхневий плазмонний резонансuk_UA
dc.subjectчутливість, електронно-променева обробкаuk_UA
dc.subjectеліпсометріяuk_UA
dc.subjectатомно-силова мікроскопіяuk_UA
dc.subjectрентгенівська рефлектометріяuk_UA
dc.titleEffect of electron-beam treatment of sensor glass substrates for SPR devices on their metrological characteristicsuk_UA
dc.title.alternativeДослідження ефективності впливу електронно-променевої обробки поверхні скляних підкладок сенсорів на метрологічні характеристики ППР-приладівuk_UA
dc.typeArticleuk_UA
dc.citation.volume22uk_UA
dc.citation.issue4uk_UA
dc.citation.spage444uk_UA
dc.citation.epage451uk_UA
dc.identifier.doi10.15407/spqeo22.04.444-
Appears in Collections:Наукові публікації викладачів (ФЕТР)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
v22n4-p444-451.pdf1.29 MBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.