Please use this identifier to cite or link to this item: https://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/4216
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorЯценко, Ірина В'ячеславівна-
dc.contributor.authorАнтонюк, Віктор Степанович-
dc.contributor.authorГордієнко, Валентин Іванович-
dc.contributor.authorВащенко, Вячеслав Андрійович-
dc.contributor.authorКириченко, Оксана В'ячеславівна-
dc.date.accessioned2022-11-08T11:33:23Z-
dc.date.available2022-11-08T11:33:23Z-
dc.date.issued2017-
dc.identifier.issn2077-6772 (print)-
dc.identifier.issn2306-4277 (online)-
dc.identifier.issn10.21272/jnep.9(1).01010-
dc.identifier.urihttps://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/4216-
dc.description.abstractРозроблено математичні моделі глибокого оплавлення елементів з оптичного скла при дії електронного променю. Проведено розрахунки товщини оплавленого шару і швидкостей руху поверхні розділу фаз в залежності від параметрів електронного променю (густини та часу його теплового впливу). Встановлено, що при зміні густини теплового впливу променю в діапазоні 7∙106...8,5∙108 Вт/м2 і збільшенні часу його впливу до 14 с товщина оплавленого шару може досягати 300...500 мкм. Визначено критичні значення параметрів електронного променю, перевищення яких призводить до порушення площинності оптичних елементів, зміни їх геометричної форми і погіршення техніко-експлуатаційних характеристик приладів, аж до їх виходу з ладу.uk_UA
dc.description.abstractMathematical model of deep melting elements made of optical glasses under the influence of the electron beam. The calculations of the thickness of the melted layer and the velocities of the interface depending on the parameters of electron beam (density and time of thermal influence). It is established that when the thermal change in the density of influence of the beam in the range of 7∙106...8,5∙108 W/m2 and increasing duration of exposure up to 14 s with the thickness of the melted layer can reach 300...500 m. We calculated critical parameters of the electron beam, the exceeding of which leads to disruption of the flatness of the optical elements, changing their geometrical shape and deterioration of technical and operational characteristics of the devices until they exit their building.uk_UA
dc.language.isoukuk_UA
dc.publisherJournal of Nano- and Electronic Physicsuk_UA
dc.subjectелектронний проміньuk_UA
dc.subjectоптичний елементuk_UA
dc.subjectтовщина оплавленого шаруuk_UA
dc.subjectточне приладобудуванняuk_UA
dc.subjectthe electron beamuk_UA
dc.subjectthickness of melted layeruk_UA
dc.subjectprecision engineeringuk_UA
dc.subjectoptical elemenuk_UA
dc.titleВизначення критичних значень параметрів електронного променю при поверхневому оплавленні оптичних елементів точного приладобудуванняuk_UA
dc.title.alternativeDetermining the critical parameters of the electron beam with surface melting of the optical elements of precision instrumentationuk_UA
dc.typeArticleuk_UA
dc.citation.volume9uk_UA
dc.citation.issue1uk_UA
dc.citation.spage01010-1uk_UA
dc.citation.epage01010-5uk_UA
Appears in Collections:Наукові публікації викладачів (ФЕТР)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
jnep_V9_01010.pdf406.69 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.