Please use this identifier to cite or link to this item: https://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/4217
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorYatsenko, Irina-
dc.contributor.authorAntonyuk, Victor-
dc.contributor.authorVashchenko, Vyacheslav-
dc.contributor.authorGordienko, Valentyn-
dc.contributor.authorKolinko, Sergiy-
dc.contributor.authorButenko, Tatiana-
dc.contributor.authorЯценко, Ірина В'ячеславівна-
dc.contributor.authorАнтонюк, Віктор Степанович-
dc.contributor.authorВащенко, Вячеслав Андрійович-
dc.contributor.authorГордієнко, Валентин Іванович-
dc.contributor.authorКолінько, Сергій Олександрович-
dc.contributor.authorБутенко, Тетяна Іванівна-
dc.date.accessioned2022-11-08T11:57:03Z-
dc.date.available2022-11-08T11:57:03Z-
dc.date.issued2022-
dc.identifier.issn2077-6772 (print)-
dc.identifier.issn2306-4277 (online)-
dc.identifier.urihttps://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/4217-
dc.description.abstractAs practice has shown, the most erratic, environmentally friendly, and easily controllable way of optical element treatment is the electron-beam method. However, the widespread use of electron beam technology in optoelectronic instrumentation is hampered by the lack of methods for determining optimal modes of electron beam microprocessing of optical elements, representing a set of controlled parameters of the electron beam (current of the beam Ib  50…300 mА, accelerating voltage Vу  4…8 kV, distances to the treated surface l  610 – 2… 810 – 2 m, beam movement speed V  510 – 2…510 – 3 m/s, heat exposure time t  0.3…1.0 s), excess of which leads to a number of undesirable phenomena, that harm the quality of the surfaces to be treated.There have been developed the mathematical models of the process of heating elements from optical glass and ceramics of various geometric shapes and sizes (thin film elements, thin plates of high size) by a moving belt electron beam, which allow to calculate the influence of its parameters on temperature fields in treated elements. It was established that the increase in the Ib and Vу parameters in the specified ranges leads to an increase in the maximum surface temperature of optical elements by more than 2 times, and the decrease in the parameters l and V by less than 1.5 times. Optimal values of the parameters of the electron beam are determined, the excess of which leads to the appearance of cracks and splits in the surface layers of elements, violation of their geometric shape and deterioration of the metrological characteristics of the devices up to their failure.uk_UA
dc.description.abstractЯк показала практика, найбільш зручним, екологічно чистим та легкокерованим способом оброб- ки оптичних елементів є електронно-променевий метод. Однак широке використання електронно- променевої технології у оптико-електронному приладобудуванні стримується відсутністю методів ви- значення оптимальних режимів електронно-променевої мікрообробки оптичних елементів, що явля- ють собою сукупність керованих параметрів електронного променю (струм електронного потоку Ib 50…300 мА, прискорююча напруга Vу 4…8 кВ, відстань до оброблюваної поверхні l 610 – 2- 810 – 2 м, швидкість переміщення променю V 510 – 2-510 – 3 м/с, час теплового впливу t 0,3…1,0 с), перевищення яких призводить до цілого ряду небажаних явищ, які погіршують якість оброблюваних поверхонь. Розроблено математичні моделі процесу нагріву елементів з оптичного скла та кераміки різної геометричної форми та розмірів (тонкоплівкові елементи, тонкі пластини великих розмірів) ру- хомим стрічковим електронним променем, що дозволяють розрахувати вплив його параметрів на тем- пературні поля у оброблюваних елементах. Встановлено, що збільшення параметрів Iп та Vу у вказа- них діапазонах призводить до зростання максимальної температури поверхні оптичних елементів бі- льше, ніж у 2 рази, а зменшення параметрів l та V – менше, ніж у 1,5 рази. Визначено оптимальні значення параметрів електронного променю, перевищення яких призводить до появи тріщин та від- колів у поверхневих шарах елементів, порушення їх геометричної форми та погіршення метрологіч- них характеристик приладів аж до їх відказів.uk_UA
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherJournal of Nano- and Electronic Physics.uk_UA
dc.subjectdelt-type electronic beamuk_UA
dc.subjecttlements from optical glass and optical ceramicsuk_UA
dc.subjecttemperature fields in optical elementsuk_UA
dc.subjectjptoelectronic instrumentationuk_UA
dc.subjectелектронний промінь стрічкового типуuk_UA
dc.subjectелементи з оптичного скла та оптичної керамікиuk_UA
dc.subjectтемпературні поля у оптичних елементахuk_UA
dc.subjectоптико-електронне приладобудуванняuk_UA
dc.titleDetermination of Optimal Modes of Electron-Beam Micro-Treatment of Surfaces in Optic Elements.uk_UA
dc.title.alternativeВизначення оптимальних режимів електронно-променевої мікрообробки поверхонь оптичних елементів.uk_UA
dc.typeArticleuk_UA
dc.citation.volume14uk_UA
dc.citation.issue4uk_UA
dc.citation.spage04012-1uk_UA
dc.citation.epage04012-7uk_UA
dc.identifier.doi10.21272/jnep.14(4).04012-
Appears in Collections:Наукові публікації викладачів (ФКТМД)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Стаття..pdf575.32 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.