Please use this identifier to cite or link to this item: https://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/736
Title: Визначення критичних значень параметрів електронного променю при поверхневому оплавленні оптичних елементів точного приладобудування
Other Titles: Determining the Critical Parameters of the Electron Beam with Surface Melting of the Opti-cal Elements of Precision Instrumentation
Authors: Яценко, Ірина В'ячеславівна
Антонюк, Віктор Степанович
Гордієнко, Валентин Івнович
Ващенко, Вячеслав Андрійович
Кириченко, Оксана Вячеславівна
Keywords: електронний промінь;оптичний елемент;Товщина оплавленого шару;точне приладобудування
Issue Date: 2017
Publisher: Журнал нано-та електронної фізики
Abstract: Розроблено математичні моделі глибокого оплавлення елементів з оптичного скла при дії електронного променю. Проведено розрахунки товщини оплавленого шару і швидкостей руху поверхні розділу фаз в залежності від параметрів електронного променю (густини та часу його теплового впливу). Встановлено, що при зміні густини теплового впливу променю в діапазоні 7∙10^6...8,5∙10^8 Вт/м^2 і збільшенні часу його впливу до 14 с товщина оплавленого шару може досягати 300...500 мкм. Визначено критичні значення параметрів електронного променю, перевищення яких призводить до порушення площинності оптичних елементів, зміни їх геометричної форми і погіршення техніко-експлуатаційних характеристик приладів, аж до їх виходу з ладу.
URI: http://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/736
ISSN: 2077-6772
Volume: 9
Issue: 1
First Page: 01010-1
End Page: 01010-5
Appears in Collections:Наукові публікації викладачів (ФЕТР)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
jnep_V9_01010.pdf415.78 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.