Математичне моделювання електричного поля в металізованих одно- та багатошарових діелектричних структурах при радіаційної електризаці

Abstract

Розглянуто розподіл електричного поля, що виникає при радіаційної електризації в окремих діелектричних плівках та багатошарових структурах. Отримані співвідношення, які дозволяють розраховувати розподіл електричних полів в структурах. Встановлено закономірності розподілу електричного поля при різних способах металізації плівки. Проаналізовано вплив різних чинників на розподіл електричного поля, що створюється накопиченими зарядами у діелектричних матеріалах

The distribution of electric field produced by radiation electrization in some dielectric films and multilayer structures is considered. The equations for calculating of electric field distribution in such dielectric structures are obtained. The regularities of electric field distribution at various ways of film surface metallization are determined. The impact of various factors on the distribution of electric field, created by charges in dielectric materials, is analyzed.

Рассмотрено распределение электрического поля, возникающего при радиационной электризации в отдельных диэлектрических пленках и многослойных структурах. Получены соотношения, позволяющие рассчитывать распределение электрических полей в таких диэлектрических структурах. Установлены закономерности распределения электрического поля при различных способах металлизации поверхности пленки. Проанализировано влияние различных факторов на распределение электрического поля, создаваемого зарядами в диэлектрических материалах