Please use this identifier to cite or link to this item: https://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/3385
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorКанашевич, Георгій Вікторович-
dc.contributor.authorУнрод, Володимир Ізяславович-
dc.contributor.authorГолуб, Микола Васильович-
dc.contributor.authorМацепа, Сергій Михайлович-
dc.contributor.authorКоваленко, Юрій Іванович-
dc.contributor.authorХижняк, Євген Валерійович-
dc.date.accessioned2022-01-04T11:39:45Z-
dc.date.available2022-01-04T11:39:45Z-
dc.date.issued2019-
dc.identifier.issn2310-9688-
dc.identifier.urihttps://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/3385-
dc.description.abstractВ статті представлені результати досліджень з термічної обробки низькоенергетичними електронами поверхні силікатного скла у вакуумі, за якою відбувається оплавлення поверхневого шару. За певних умов обробки відбувається відшарування поверхні у вигляді пластин товщиною 0,1...1,2мм. Відшарована поверхня відрізняється покращеною хімічною однорідністю, покращеним залишковим нанорельєфом, змінним показником заломлення. Такі пластини мають перспективу для використання в мікрооптиці (МО), інтегральній оптиці (ІО) та волоконній оптиці (ВО)uk_UA
dc.language.isoukuk_UA
dc.publisherВісник українського матеріалознавчого товариства ім. І.М. Францевичаuk_UA
dc.subjectоптичне склоuk_UA
dc.subjectповерхня склаuk_UA
dc.subjectповерхневий шар склаuk_UA
dc.subjectпластини малої товщиниuk_UA
dc.subjectелектронний потікuk_UA
dc.subjectелектронно-променева мікрообробка склаuk_UA
dc.titleВикористання електронно-променевого методу обробки для відшарування пластин малої товщини з поверхні оптичного матеріалуuk_UA
dc.typeArticleuk_UA
dc.citation.issue12uk_UA
dc.citation.spage21uk_UA
dc.citation.epage25uk_UA
Appears in Collections:Наукові публікації викладачів (ФКТМД)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Вісник №12_ 2019.pdf547.13 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.