Використання електронно-променевого методу обробки для відшарування пластин малої товщини з поверхні оптичного матеріалу

Abstract

В статті представлені результати досліджень з термічної обробки низькоенергетичними електронами поверхні силікатного скла у вакуумі, за якою відбувається оплавлення поверхневого шару. За певних умов обробки відбувається відшарування поверхні у вигляді пластин товщиною 0,1...1,2мм. Відшарована поверхня відрізняється покращеною хімічною однорідністю, покращеним залишковим нанорельєфом, змінним показником заломлення. Такі пластини мають перспективу для використання в мікрооптиці (МО), інтегральній оптиці (ІО) та волоконній оптиці (ВО)