Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: https://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/2945
Повний запис метаданих
Поле DCЗначенняМова
dc.contributor.authorOsypenko, Vasyl-
dc.contributor.authorStupak, Denys-
dc.contributor.authorTryhub, Oksana-
dc.contributor.authorBilan, Anatolii-
dc.contributor.authorОсипенко, Василь Іванович-
dc.contributor.authorСтупак, Денис Олегович-
dc.contributor.authorТригуб, Оксана Анатоліївна-
dc.contributor.authorБілан, Анатолій Валентинович-
dc.date.accessioned2021-11-30T13:18:42Z-
dc.date.available2021-11-30T13:18:42Z-
dc.date.issued2012-
dc.identifier.issn1068 3755-
dc.identifier.urihttps://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/2945-
dc.description.abstractThis article is devoted to the calculation of the electrostatic field configuration in the interelec trode gap during electrochemical treatment using thin wire electrodes. The results calculated are experimen tally verified. The possibility of predicting the accuracy of the detailed formation and for calculating the needed processing modes using the drawings of the applied perspective hybrid technology has been shown.uk_UA
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherSurface Engineering and Applied Electrochemistryuk_UA
dc.subjectwire electrodeuk_UA
dc.subjectanodic dissolutionuk_UA
dc.subjectapply electrochemistryuk_UA
dc.subjectsurface engineeruk_UA
dc.subjectanode current densityuk_UA
dc.titleCalculation of the Parameters of the Technological Current Density Distribution during Wire Electrode Electrochemical Processinguk_UA
dc.typeArticleuk_UA
dc.citation.volume48uk_UA
dc.citation.issue2uk_UA
dc.citation.spage105uk_UA
dc.citation.epage110uk_UA
dc.identifier.doi10.3103/S106837551202010X-
Розташовується у зібраннях:Наукові публікації викладачів (ФКТМД)

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
71404c4bcd37000d96f5e1370174552f.pdf398.4 kBAdobe PDFЕскіз
Переглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищено авторським правом, усі права збережено.