Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
https://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/2945
Назва: | Calculation of the Parameters of the Technological Current Density Distribution during Wire Electrode Electrochemical Processing |
Автори: | Osypenko, Vasyl Stupak, Denys Tryhub, Oksana Bilan, Anatolii Осипенко, Василь Іванович Ступак, Денис Олегович Тригуб, Оксана Анатоліївна Білан, Анатолій Валентинович |
Ключові слова: | wire electrode;anodic dissolution;apply electrochemistry;surface engineer;anode current density |
Дата публікації: | 2012 |
Видавництво: | Surface Engineering and Applied Electrochemistry |
Короткий огляд (реферат): | This article is devoted to the calculation of the electrostatic field configuration in the interelec trode gap during electrochemical treatment using thin wire electrodes. The results calculated are experimen tally verified. The possibility of predicting the accuracy of the detailed formation and for calculating the needed processing modes using the drawings of the applied perspective hybrid technology has been shown. |
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): | https://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/2945 |
ISSN: | 1068 3755 |
DOI: | 10.3103/S106837551202010X |
Том: | 48 |
Випуск: | 2 |
Початкова сторінка: | 105 |
Кінцева сторінка: | 110 |
Розташовується у зібраннях: | Наукові публікації викладачів (ФКТМД) |
Файли цього матеріалу:
Файл | Опис | Розмір | Формат | |
---|---|---|---|---|
71404c4bcd37000d96f5e1370174552f.pdf | 398.4 kB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищено авторським правом, усі права збережено.